鍍液是由什麽組成的

 鍍液組成
目前研究和使（shǐ）用的三價鉻電鍍液主要成分如（rú）下：
(1)主鹽：當前三價鉻鍍鉻體係主要有氯化物體係，硫酸鹽體係（xì）和硫酸鹽-氯化物混（hún）合體係。
氯化物鍍液導電好，電壓低，鍍液分散能力、覆蓋能力和電（diàn）流（liú）效率較高，但陽極會析出有毒的CL2，且（qiě）對設備腐蝕較重;硫酸鉻電鍍時陽極析出無毒的氧氣，無汙染，但鍍液導電性不如氯化物，鍍液分散能力、覆蓋能力和電流效（xiào）率（lǜ）較低。
(2)絡合劑：通常為羥基羧酸及其鹽，如甲酸和乙酸鹽、氨基乙酸、草酸及其鹽，檸檬酸及其鹽（yán），硫氰算眼和酒石酸鹽等。
(3)導電鹽（yán）：減少電能的消耗。多（duō）為鈉、鉀、銨的氯化物和硫酸鹽。
(4)緩衝劑：維持鍍（dù）液PH值穩定。多為硼酸、醋酸鹽、鋁鹽以及檸檬酸鹽等。
(5)穩定（dìng）劑：複合型還原劑，抑製和（hé）降低六價鉻的產生。多為甲醇、亞硫酸鈉、鹵化（huà）物等。

工藝（yì）條件
(1)溫度：最好在室溫下（xià）進行，工作溫度一般（bān）控製在15～55℃。溫度升高（gāo）會降低濃差極化，並（bìng）使CR3+的析出點位正移，同時析氫嚴重，不利於鉻的沉積。
(2)PH值為1～4。PH值低時析氫嚴重，陰極（jí）電流效率降低，PH值高時易發生羥橋化反應（yīng），鍍層發暗。
(3)電流（liú）密度為3～100A/DM2。陰極電流密度範圍較寬，但（dàn）較低時會（huì）影響鉻沉積速度，陰（yīn）極電流密度過高會影響到鍍層性能（néng）。
(4)電（diàn）流效率為10%～25%。可以進行輕微攪拌。
另外，三價鉻鍍（dù）鉻有單槽方式和雙（shuāng）槽方式，單槽方式（shì）中的陽（yáng）極材料是石（shí）墨棒，與其他普通電鍍一樣;雙槽方式使用了陽極內槽，可以使用鉛（qiān）錫合金陽（yáng）極罩，另外作為（wéi）陽極基礎液使用了稀硫酸。

三（sān）價鉻鍍鉻優點
三（sān）價（jià）鉻電鍍具有下列（liè）優點：
(1)毒性低，汙染小。鍍液清洗水中不含六（liù）價鉻，廢水稍加處理即可排放，且（qiě）電鍍過程不產生有毒的鉻酸（suān）霧;
(2)鍍液濃度低,隻有六價鉻鍍（dù）鉻的1/10，分散能力和覆蓋能力好，成品率提高;
(3)電鍍過程不受電流中斷（duàn）的影響，無需（xū）退鍍;
(4)陰極電流效率可達21～25%，高於六價鉻電鍍，提高了生產率。

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