鋅鎳合（hé）金鍍層陰（yīn）暗原因分析鍍（dù）層陰暗

 鍍層陰暗（àn）多（duō）數出現在低電流密度區，偶爾（ěr）也有（yǒu）出現在中電流密度區（qū）或（huò）高電流密度區。
低電流密度區鍍層陰暗可能是鍍液溫度太高，電流（liú）密（mì）度太小，主鹽濃度（dù）太低；
次級光亮劑過多或鍍液中有（yǒu）銅、鋅雜質引起的；中電流（liú）密度區鍍層陰暗可能是由次級光亮（liàng）劑（jì）太少，有（yǒu）機雜質（zhì）過多（duō）或有一定量的鐵雜質造成的（de）；
高電流密度區鍍層陰暗可能是鍍液pH太高，初級光亮劑太少或鍍液中（zhōng）有少量（liàng）的鉻酸鹽、磷酸鹽及鉛雜質（zhì）引（yǐn）起的。
此外，鍍前處（chù）理不良，鍍件表麵有堿膜（mó）或有機物吸附膜，或者底（dǐ）鍍層不好也會導致鎳層出現陰暗的現象。
分析這（zhè）類故障，可以（yǐ）取鍍鎳（niè）液先做赫爾槽試驗，假使多次試驗，赫爾槽的陰極樣板上鍍層狀況良好，沒有（yǒu）出現陰暗的現象（xiàng），
那麽（me）電鍍時出現的故障，可能是鍍前處理不良或底鍍層不好造成的，應該認真檢（jiǎn）查電鍍前的情（qíng）況。
若赫爾槽試驗所得的陰極樣板上出現低電流密度區鍍層陰暗，則（zé）可以根據前麵提到（dào）的可能原因（yīn）進行分析。
中、高電流密度區鍍層陰暗，也可用類似的方法進行試驗，這裏不再贅述（shù）。

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