請問真空電鍍加工的方法是什麽（me）？

 真空電鍍加工（gōng）是真空應用中的一個大（dà）分支，在光學（xué）、電子學、理化儀器、包裝、機械（xiè）以及表麵處（chù）理技術等眾多（duō）方麵有著十分廣泛的（de）應用。為了讓大家更詳細的了解（jiě）真空鍍膜的應用（yòng），今（jīn）天小編詳細為大家介紹真空電鍍加工的主要幾種方（fāng）法，希望對大家有用!

真空電鍍應（yīng）用，簡單地理解就是（shì）在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨後凝結的辦法，在（zài）金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體（tǐ）上鍍上金（jīn）屬（shǔ）薄膜或者是覆蓋層。相對於傳（chuán）統（tǒng）電鍍（dù）方式，真空電鍍（dù）應用屬於一（yī）種幹式電鍍，它的主要方法包括以下幾種：

真空蒸（zhēng）鍍。其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其（qí）氣化或升華，蒸發（fā）離子（zǐ）流直接射向基片，並在基片上沉積析出固態薄膜的技術。

濺射鍍膜。濺射鍍膜是（shì）真空（kōng）條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶（dài）正電的氬離子撞擊陰極，使其（qí）射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形（xíng）成膜層。

離子鍍膜。即幹式螺杆真空泵廠家已（yǐ）經介紹過的真空離子鍍膜。它是在（zài）上麵兩種真空鍍膜技術基（jī）礎上發展而來的，因此（cǐ）兼有（yǒu）兩者的工藝（yì）特點。在真空條件（jiàn）下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質(膜（mó）材)部分離化，並在離子轟擊（jī）下，將蒸發（fā）物或其反應物沉（chén）積（jī）在基片（piàn）表麵。在膜的形（xíng）成過程中，基片始終受到高能粒子的（de）轟擊，十分清潔。

真空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一（yī）些功能性、裝飾性屬性。

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